光源系列 原位光源PHOTON-40
描述
产品简介和优势
同步辐射下实现金属打印真实过程
光源40可在X光场同步辐射下完成金属打印全过程，配置了完整的打印设 备全套系统 (铺粉系统、刮粉装置、风场、Z轴运动装置等) ，完成上千层铺粉，助力研发人员在真实的金属打印过程中收集数据。
一机多用: 可随时更换为常规打印系统
除X光场透射衍射实验配套打印腔室外，光源40配置了能完成常规金属打印的打印腔室，成型空间为o60XH80mm, 客户可随时更换为常规打印腔室，满足各种力学性能试样及小型部件的打印需求
透射，衍射需求灵活满足
同步辐射的情况下，光源40配置了灵活的高度调节及角度旋转系统，可同时满足透射及衍射实验需求。
预热温度灵活选择
常规打印腔室升级可选：200°C或500°C高温预热配置, 可大幅度拓宽材料研发窗口，满足更多研发需求。
工艺参数打印过程中灵活调整
通过更开放的工艺参数系统（自主创建cli文件轮廓与不同类别填充的扫描参数及路径策略 ，激光功率、扫描速度、跳转速度、出光延时、扫描延时、层旋转角度、中心点偏移、铺粉速度、位移尺度控制、供粉速度等) ，帮助用户更灵活更深度地研发及摸索最优工艺参数。
产品参数
同步辐射下实现金属打印真实过程
光源40可在X光场同步辐射下完成金属打印全过程，配置了完整的打印设 备全套系统 (铺粉系统、刮粉装置、风场、Z轴运动装置等) ，完成上千层铺粉，助力研发人员在真实的金属打印过程中收集数据。
一机多用: 可随时更换为常规打印系统
除X光场透射衍射实验配套打印腔室外，光源40配置了能完成常规金属打印的打印腔室，成型空间为o60XH80mm, 客户可随时更换为常规打印腔室，满足各种力学性能试样及小型部件的打印需求
透射，衍射需求灵活满足
同步辐射的情况下，光源40配置了灵活的高度调节及角度旋转系统，可同时满足透射及衍射实验需求。
预热温度灵活选择
常规打印腔室升级可选：200°C或500°C高温预热配置, 可大幅度拓宽材料研发窗口，满足更多研发需求。
工艺参数打印过程中灵活调整
通过更开放的工艺参数系统（自主创建cli文件轮廓与不同类别填充的扫描参数及路径策略 ，激光功率、扫描速度、跳转速度、出光延时、扫描延时、层旋转角度、中心点偏移、铺粉速度、位移尺度控制、供粉速度等) ，帮助用户更灵活更深度地研发及摸索最优工艺参数。
产品参数
|
成型空间 |
LxWxH 40x2x5mm（同步辐射 X 光透光空间） ∅60xH80mm（打印空间） |
| 打印层厚 | 20-100μm |
| 激光器 | 500 W YB-FIBERLASER |
| 光斑尺寸 | ≥30/≥50μm |
| 扫描速度 | 10m/s |
| 典型表面粗糙度 | ≥3.2μm |
| 粉末粒度分布 | 15-53μm |
| 分辨率 | ≥80μm |
| 保护气体 | 氩气 |
| 环境温度 | 15-35℃ |
| 设备尺寸（LxWxH） | 3500x2700x3000mm |
| 设备重量 | ≈116Kg |
| 电源要求 | ≥10KW，三相电380V±10%,50Hz；单相电AC220V±10%,50Hz |
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